N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) adalah pelarut prestasi tinggi yang digunakan secara meluas dalam industri elektronik untuk kesolvenannya yang kuat, titik mendidih tinggi, dan kestabilan kimia. Ia memainkan peranan utama dalam pembuatan semikonduktor, di mana ia digunakan untuk pelucutan photoresist, pembersihan wafer, dan penyingkiran sisa fluks. Dalam pengeluaran papan litar bercetak (PCB), NMP berkesan membubarkan bahan cemar tanpa merosakkan komponen halus. Ia juga digunakan dalam fabrikasi bateri lithium-ion dan kapasitor, di mana kesucian dan prestasi adalah kritikal. Walaupun keberkesanannya, tekanan pengawalseliaan yang semakin meningkat disebabkan oleh kesihatan dan kebimbangan alam sekitar telah membawa kepada peningkatan penyelidikan ke dalam alternatif yang lebih selamat dan lebih mampan untuk digunakan dalam proses elektronik berteknologi tinggi.